KS-S300-SR 单片清洗机
1. 清洗机可以提供持续稳定的液体压力输出,以保证工艺效果和产能 2. 在不损伤图形的前提下,提供较强的兆声波能量,加速液体分子冲击 力,以去除深孔、深沟槽内的污染物 3. 液体流量、压力以及温度等参数控制的稳定性,为产品的一致性提供了有力支撑
● 高端封装领域中的表面颗粒污染物去除 ● TSV深孔内含氟聚合物去除 ● OLED领域中基板来料清洗、成膜前清洗、硼磷清洗及蒸镀前基板清洗等
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